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施密科是集研发,生产,销售为一体的湿法制程设备制造商
| 项目 | 数据 |
| 适用圆晶尺寸 | 汥見锊腐咯僦菁牮展拭Ұ朩师8”晶圆 |
| 腔体数量 | 2EA,4EA,8EA可选 |
| 片盒 | 2EA,4EA Open Cassette或 (or) Load Port |
| ROBOT | 双手臂传送,防止交叉污染 |
| Chuck | 机械夹持式/真空吸附式 |
| 蚀刻 | 硅、氧化硅、铜、钛、等金属刻蚀 |
| 干燥方式 | Spin dry;N2 spin dry |
| 颗粒 | <10ea @0.3μm |
| 金属离子 | All Metal<2.5E10 atoms/cm2 |
| 蚀刻均匀性 | <5% |
| 设备稼动率 | >98% |
| 设备外观 | 9002白色(White)PVC |
| 设备尺寸 | 2100mm(L)*2100mm(W)*2300mm(H) |
| 通讯协议 | 支持(Support) SECS/GEM&MES |